دیسپرس اولتراسونیک عوامل پولیش‌دهنده  (CMP):

دیسپرس اولتراسونیک عوامل پولیش‌دهنده  (CMP):
اندازه غیر یکنواخت ذرات و توزیع غیر همگن اندازه ذرات می‌تواند در طول فرآیندCMP باعث آسیب شدید به سطح پولیش‌شده شود. پراکندگی اولتراسونیک یک روش پیشرفته برای پراکنده کردن و جدا کردن ذرات پولیش با اندازه نانو است. پراکندگی یکنواختی که با سونیکاسیون ایجاد می‌شود، باعث می‌شود فرآیند CMP روی سطوح با کیفیت بالاتری انجام شود و از ایجاد خراش یا نقص ناشی از دانه‌های بزرگ جلوگیری گردد.
ادامه مطلب

نوشته های اخیر

​​​​​​​​​​​​​​

دسته بندی ها​​​​​​​

رمز عبورتان را فراموش کرده‌اید؟

ثبت کلمه عبور خود را فراموش کرده‌اید؟ لطفا شماره همراه یا آدرس ایمیل خودتان را وارد کنید. شما به زودی یک ایمیل یا اس ام اس برای ایجاد کلمه عبور جدید، دریافت خواهید کرد.

بازگشت به بخش ورود

کد دریافتی را وارد نمایید.

بازگشت به بخش ورود

تغییر کلمه عبور

تغییر کلمه عبور

حساب کاربری من

سفارشات

مشاهده سفارش

سبد خرید